Samsung Electronics получила новый литографический сканер для производства чипов по технологии меньше 2 нм
Южнокорейская компания Samsung Electronics получила новый высоконаправленный литографический сканер от ASML, который позволит ей выпускать чипы с нормами менее 2 нм. Об этом сообщает издание 3DNews.
Сканеры нового поколения обладают числовым апертуром (High-NA) и используют сверхжёсткое ультрафиолетовое излучение (EUV). Первый образец такой техники Samsung уже установила на флагманском предприятии в городе Хвасон.
По данным южнокорейских СМИ, компания получила первый экземпляр сканера ASML TwinScan EXE:5000 для работы с ним на своём заводе в начале этого месяца. Эксперты считают это своевременным шагом, так как у Intel уже установлено два таких сканера в Орегоне, а TSMC также проявляет интерес к подобному оборудованию.
В четвертом квартале 2024 года Samsung занимала лишь 8,1% мирового рынка услуг по контрактному производству чипов. В то же время, TSMC укрепили свои позиции на 2,4% до 67,1%, а выручка Samsung сократилась на 1,4% до $3,26 млрд.
Своевременное освоение передовых технологий позволит Samsung эффективнее конкурировать на рынке и удерживать свои позиции. По прогнозам TSMC, оборудование класса High-NA EUV будет внедрено в массовое производство чипов к 2028 году, а Intel рассчитывает сделать это значительно раньше.
Samsung Electronics входит в число крупнейших производителей полупроводниковых компонентов и процессорных решений. Компания активно инвестирует в развитие новых технологий для поддержания конкурентоспособности на мировом рынке микрочипов.